西安熔斷器
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西安熔斷器生產(chǎn)廠家-RS504C

2020-06-12 09:24:53
西安熔斷器生產(chǎn)廠家-RS504C
詳細(xì)介紹:

開關(guān)設(shè)備的電流開斷過程是弧隙由小阻抗到高阻抗的變化過程。當(dāng)熔斷器中的電流從開斷瞬時起,西安熔斷器生產(chǎn)廠家其弧隙將會迅速從良導(dǎo)體轉(zhuǎn)變?yōu)榻^緣體,并且能承受電力系統(tǒng)加在弧隙上的恢復(fù)電壓,以阻止電流通過弧隙。

熔斷器分?jǐn)喙收想娏骱?,弧隙還是一個具有一定電阻的導(dǎo)體,在恢復(fù)電壓的作用下弧隙中就有電流通過,將此電流定義為弧后電流{ ( post-arccurrent)。

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弧后電流研究,西安熔斷器生產(chǎn)廠家對于熔斷器的弧后電流研究,多為20世紀(jì)之前的研究,針對弧后電流的大小以及殘軀電阻等方向。

弧后電流國外研究現(xiàn)狀,1978年,M.R. Barrau在 PROC.IEE發(fā)表的文章Factors influencing the formation and structureof fuse fulgurites中首次提到 post-arc current的概念,并指出銀和鋁熔體的弧后電流均隨著熔體幾何尺寸的增大而增大,且相同幾何形狀的銀熔體的弧后電流往往小于鋁焰體弧后電流;

1992,波蘭羅茲工業(yè)大學(xué) Jakubluk K., Lipski T在其論文 Dynamics of Fulqurite Formation

during Arcing in HRC Fuses中詳細(xì)闡述了熔斷器殘軀的形成過程,并給出了熔斷器弧后恢復(fù)過程集中在兩條平行路徑上;

一個是分散在石英砂中井與焰體未端電流連接的金屬層之間的間隙

第二個是沿著熔融的二氧化硅壁。

同年,在第七屆“ Switching Arc Phenomena國際會議上,羅茲工業(yè)大學(xué)的 Cwidak K, Lipski T.發(fā)表了 Post-arcresistance in h.b.c. fuses,將熔斷器的弧后恢復(fù)過程用殘軀電阻(熔斷器兩端恢復(fù)電壓與弧后電流的比值)來反應(yīng)Ehrhardt A, Nutch G., Rother W發(fā)表了 Das Verhalten vonelektrischen Sicherungen nach Stromnull(西安熔斷器生產(chǎn)廠家弧后電流特性),指出熔斷器弧后殘軀電陽與溫度有很大關(guān)系,Cwidak K, Lipski T。在1995發(fā)表的 New results on thepost-arc fulgurite resistance of h.b.c. fuses也進(jìn)一步印證了這個觀點。

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